成都离子镀的种类很多，如直流放二极型、多阴极型、射频放电离子镀、空心阴极放电离子镀等，各种类型的蒸发源、充入气体、真空室真空度、离化方式、基板温升等都不相同。不同的蒸发源与不同的电离、激发方式又可以有不同的结合，因此离子镀类型较多。

离子镀与蒸发镀、溅射镀比较有如下特点：

（1）附着力强，镀层不容易脱落。因为在离子镀过程中基片被清晰与刻蚀，同时基片被加热，这就是提高了表面层组织的结晶性能，促进了化学反应和扩散作用，从而提高了镀膜的附着力和强度。

（2）绕射性能好。这主要因为膜材和基片间有上千伏的偏压和膜材离子到达基片上要遇到多次碰撞，因而产生好的绕射性能，使基片的所有表面沉积上薄膜。

（3）镀层质量高。镀膜层致密，很少针孔和空气孔。

（4）可镀材质广泛。离子镀可在金属或非金属表面上镀制金属或非金属材料。

（5）沉积速率高、镀膜速度快，可镀厚膜。镀不锈钢为0.3mm/h，镀钛为0.23mm/h。